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開発関連（R&D）

開発及び応用技術（R&D）

  1. 常圧プラズマでの透明伝導膜（TCO）の成膜装置。
  2. 滅菌、殺菌処理技術（高濃度オゾン、OH等）
  3. ナノ粒子（有機、無機）表面の表面改質、無機表面の表面還元処理技術。
  4. 微小パイプ内外部への表面処理技術。
  5. CF4、CHF3、SF6等ガスを用いた撥水化処理およびエッチング。
  6. フィルムベース上の銅箔、銀箔表面の表面還元処理技術。
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株式会社イー・スクエア
〒613-0032
京都府久世郡久御山町
栄二丁目1番地210
TEL：0774-48-3366
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