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開発関連(R&D)

開発および応用技術(R&D) / 開發以及技術運用(R&D)

常圧プラズマでの透明伝導膜(TCO)の成膜装置。
由常壓Plasma進行成膜透明導電膜(TCO)。
滅菌、殺菌処理技術(高濃度オゾン、OH等)。
滅菌、殺菌處理技術(高濃度臭氧、OH…等)。
ナノ粒子(有機、無機)表面の表面改質、無機表面の表面還元処理技術。
對於奈米粒子(有機、無機)表面的表面改質、在無機表面的表面還元處理技術。
微小パイプ内外部への表面処理技術。
對於細微管子內外部的表面處理技術。
CF4、CHF3、SF6等ガスを用いた撥水化処理およびエッチング。
運用CF4、CHF3、SF6等氣體的潑水化處理及蝕刻。
フィルムベース上の銅箔、銀箔表面の表面還元処理技術。
對於在光學膜上的銅箔、銀箔表面的表面還元處理技術。 

株式会社イー・スクエア
〒613-0032
京都府久世郡久御山町
栄二丁目1番地210 <MAP>
TEL:0774-48-3366