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製品紹介

AP Plasma High Density Oxygen Rasicals

N2 Consumption

45%~40% reduction.

Length/Conventional(SLM)

Process application

Process application contents

performance

perfomance contents

Oxygen Radical Concentration

oxygen contents

ESD

ESD contents

株式会社イー・スクエア
〒613-0032
京都府久世郡久御山町
栄二丁目1番地210 <MAP>
TEL:0774-48-3366