株式会社イー・スクエア

プラズマ乾燥特許取得しました。

室温近傍で残渣物の出来ない乾燥ができ、従来のIRヒーター方式に比べ予熱も必要なく、電力比率1/10～1/30が削減でき、設置面積も従来比率1/20以上も軽減される。

従来

表面改質

薬液洗浄

超音波洗浄

リンス

エアーナイフ

静電気除去

IRヒーター乾燥

次工程へ…

特許

表面改質

薬液洗浄

超音波洗浄

リンス

エアーナイフ

プラズマ乾燥

エアーナイフ乾燥による水滴再付着からの残渣物抑制

乾燥と表面改質の同時処理

室温近傍での乾燥

低消費電力（従来比率1/10～1/30）

乾燥部のフットプリントが1/10～1/30

C/Pが不要